紫外濾光片

產(chǎn)品型號(hào)：
更新時(shí)間：2024-04-11
產(chǎn)品介紹：紫外濾光片采用磁控濺射金屬鍍膜，可在單基底上實(shí)現(xiàn)高透過(guò)率和高截止深度 (OD4+, visible - IR)。膜層具有較高的致密度，對(duì)各種環(huán)境因素耐受性強(qiáng)，各項(xiàng)光譜指標(biāo)不受溫度和濕度的影響。在熱測(cè)試實(shí)驗(yàn)中，濾光片在 300℃放置兩小時(shí)后，沒(méi)有檢測(cè)到任何損傷和光譜指標(biāo)衰減。*的質(zhì)量控制和管理方法保證所有出廠(chǎng)的濾光片都滿(mǎn)足 ISO，NIST，MIL 等各項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)。
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產(chǎn)品介紹

品牌	其他品牌	供貨周期	一個(gè)月
應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,電子,綜合

紫外濾光片采用磁控濺射金屬鍍膜，可在單基底上實(shí)現(xiàn)高透過(guò)率和高截止深度 (OD4+, visible - IR)。膜層具有較高的致密度，對(duì)各種環(huán)境因素耐受性強(qiáng)，各項(xiàng)光譜指標(biāo)不受溫度和濕度的影響。在熱測(cè)試實(shí)驗(yàn)中，濾光片在 300℃放置兩小時(shí)后，沒(méi)有檢測(cè)到任何損傷和光譜指標(biāo)衰減。*的質(zhì)量控制和管理方法保證所有出廠(chǎng)的濾光片都滿(mǎn)足 ISO，NIST，MIL 等各項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)。

濾光片組	中心波長(zhǎng)	帶寬	透過(guò)率	截止深度
ET206/10BP	206 nm	10 nm	Tpeak >/= 13%	OD3-6 @ 236 - 1000 nm
ET214/20BP	214 nm	20 nm	Tpeak >/= 25%	OD3-6 @ 200 - 1200 nm
ET220/10BP	220 nm	10 nm	Tpeak >/= 22%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET235/10BP	235 nm	10 nm	Tpeak >/= 25%	OD4-6 @ 190 - 1200 nm
ET240/10BP	240 nm	10 nm	Tpeak >/= 25%	OD4-6 @ 190 - 1200 nm
ET250/20BP	250 nm	20 nm	Tpeak >/= 30%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET254/10BP	254 nm	10 nm	Tpeak >/= 30%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET260/10BP	260 nm	10 nm	Tpeak >/= 30%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET270/15BP	270 nm	15 nm	Tpeak >/= 32%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET280/10BP	280 nm	10 nm	Tpeak >/= 25%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET292/10BP	292 nm	10 nm	Tpeak >/= 30%	OD4-6 @ 190 - 1200 nm
ET300/10BP	300 nm	10 nm	Tpeak >/= 35%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET313/25BP	313 nm	25 nm	Tpeak >/= 35%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET325/20BP	325 nm	20 nm	Tpeak >/= 35%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET334/10BP	334 nm	10 nm	Tpeak >/= 35%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET337/10BP	337 nm	10 nm	Tpeak >/= 40%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET340/10BP	340 nm	10 nm	Tpeak >/= 35%	OD4-6 @ 200 - 1500 nm
ET345/10BP	345 nm	10 nm	Tpeak >/= 35%	OD4-6 @ 200 - 1500 nm
ET350/10BP	206 nm	10 nm	Tpeak >/= 35%	OD4-6 @ 200 - 1500 nm
ET365/10BP	206 nm	10 nm	Tpeak >/= 40%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm
ET375/10BP	206 nm	10 nm	Tpeak >/= 40%	OD4-6 @ 200 - 1200 nm

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